1). 프로젝트 배경:
요구 사항 설명:
위치 지정 요구사항: 실리콘 웨이퍼의 네 모서리나 Mark 점을 촬영하여 인쇄 위치를 결정하고 UVW 플랫폼 인쇄를 안내합니다;
검출 요구사항:
1.배터리 엣지 손상 검출;
2.배터리에 있는 오염물 검출, 예: 재, 지문 등;
3.인쇄된 배터리가 균열이나 파손되었는지 재확인합니다.
기술 요구사항:
정적 정확도는 약 ± 0.005mm, 동적 정확도는 약 ± 0.015mm입니다.
2). 솔루션 아키텍처:
위치 지정 비전 시스템은 5MP 해상도의 산업용 카메라, HF 시리즈 산업용 렌즈 및 링형 광원으로 구성됩니다.
2K 라인 스캔 산업용 카메라, KF 렌즈 및 라인 라이트 소스가 검사 비전 시스템을 구성합니다.
3). 프로그램의 장점:
1. 고정밀도, 흑백 체스보드 캘리브레이션을 통해 방사 왜곡 및 관점 왜곡 교정.
2. 저소비전력, 포지셔닝 처리 시간 ≤150ms, 엣지 감지 처리 시간 ≤200ms.
3. VM 플랫폼 기반으로 다양한 고성능 알고리즘 모듈을 갖추고 있으며, 특징 매칭 기반의 포지셔닝 알고리즘과 선형 결함 감지 도구 기반의 엣지 결함 감지 알고리즘을 제공합니다.
4. 성능 대비 가격이 합리적인 카메라 솔루션, 낮은 비용, 높은 성능.
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